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Cible de pulvérisation pour revêtement

Gr2 Titanium Round Target Pour Revêtement PVD

Lieu d'origine : Shaanxi, Chine (continentale)
Nom de marque : YUNCH
taille normale : Diamètre30 ~ 2000mm
Application : traitement de pvd industriel / coting / semiconducteur
Matériau : Titane, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensions : sur mesure
Composition chimique : Métal
poudre ou pas : pas de puissance
Mot - clé : cible de pulvérisation pour Vaccum Coating
Technique : forger, moudre, vif
couleur : métallique
Pureté : 2N8 ~ 5N
Certification : ISO 10 EN10204 3.1 , EN10204 3.2
Type : Cible de pulvérisation, Cible ronde,
Tolérance de pièce : ± 0.05
Ra : 1,6-6,3
Inspection : examen par ultrasons test test de pression de l'eau.
...

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Cible de pulvérisation de métal pur

Aluminium

Al

granule, rond, planaire, cible rotative

3N ~ 6N

Chronium

Cr

granule, rond, planaire, cible rotative

2N ~ 3N5

Platine

Pt

granule, rond, planaire, cible rotative

4N ~ 5N

Nickel

Ni

granule, rond, planaire, cible rotative

4N ~ 5N

Cobalt

Co

granule, rond, planaire, cible rotative

3N ~ 4N

Zirconium

Zr

granule, rond, planaire, cible rotative

2N2 ~ 4N

Titane

Ti

granule, rond, planaire, cible rotative

4N ~ 5N

Cuivre

Cu

granule, rond, planaire, cible rotative

4N ~ 5N

Molybdène

Mo

granule, rond, planaire, cible rotative

3N ~ 4N

Niobium

Nb

granule, rond, planaire, cible rotative

3N5

Tatalum

Ta

granule, rond, planaire, cible rotative

4N5

Tungstène

W

granule, rond, planaire, cible rotative

3N5

Hafnium

Hf

granule, rond, planaire, cible rotative

3N

Vanadium

V

granule, rond, planaire, cible rotative

2N5 ~ 3N


Contrôle de qualité

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