Shaanxi Yunzhong Industrie Development Co., Ltd

Cible de pulvérisation Mo

Source: Cible de pulvérisation Mo

Pulvérisation cathodique cible de pulvérisation magnétron, pulvérisation cathodique est un nouveau type de méthode de physique vapor deposition (PVD).


Dans la cible de pulvérisation (cathode) avec un champ magnétique orthogonaux et de champ électrique et de l’anode, dans la chambre à vide élevé remplis de gaz inertes nécessaires (habituellement Ar), sous l’action du champ électrique, ionisation de gaz Ar en ions et d’électrons, la cible avec une certaine pression négative, par le champ de gaz de travail dans la cible électronique de l’ionisation probabilité augmente, la formation d’un plasma haute densité près de la cathode , le rôle des ions Ar dans la force de Lorentz accéléré vers la surface de la cible, avec la surface de la cible des bombardements très haute vitesse, la cible a été pulvérisé atomes suivies de principe supérieur transfert d’impulsion de l’énergie cinétique de la surface de la cible à film de substrat déposé.


Pulvérisation cathodique revêtement principalement utilisé : Ecran plat, industrie de revêtement de verre (dont principalement le verre architectural, vitrage automobile, verre optique, film, etc.) mince ingénierie solaire de la surface de film (décoration andamp ; Des outils), (magnétique et optique, support d’enregistrement), micro électronique, l’éclairage automobile, revêtement décoratif etc...


Dans la cible tournante champ de 09 ans, tout d’abord proposé le concept de cible de molybdène intégrée de tube, a été reconnu par des clients nationaux et étrangers. Cible de pulvérisation de molybdène peut fournir les dimensions suivantes selon les besoins des utilisateurs :

Cible de l’avion : unique : inférieure ou égale à 260kg, pureté : 99,97 %


Rotatif - tube cible : OD : 140-180mm ; ID : 125-Phi Phi longueur 135 mm est inférieur ou égal à 3300mm, la pureté est supérieure à 99,97 %.


composition chimique

钼含量其它元素含量总和每种元素含量
≥99.97%≤0.03%≤0.001%

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