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Sputtering cibles pour revêtement

Plaque de cible carrée ronde en alliage de tungstène

Lieu d'origine : Shaanxi, Chine (continentale)
Nom de marque : YUNCH
Nom de marque : TUNGSTEN
taille normale épaisseur≥10 ~ 45mm
taille normale Diamètre≤100mm
Application : traitement de pvd d'industrie / coting / semi-conducteur
verre à faible émissivité, cellules photovoltaïques, dispositif électronique et décoration
Forme : rond, plaque, tube
Matériau : Titane, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensions : comme personnalisé
Composition chimique : Métal
poudre ou pas : pas de pouvoir
Mot - clé : cible de pulvérisation cathodique
Technique : forge, broyer, brillant
Couleur : Métallique
Pureté : 2N8-5N
Certification : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Type : Cible de pulvérisation, Cible ronde,
Tolérance de pièce : ± 0,05
Ra : 1.6-6.3
Inspection : Examen par ultrasons, test de pression de l'eau.
...

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tungsten.png

Description du produit

Nom de l'article

cibles de tungstène

Pureté

99.95%

Forme

Cible ronde / selon votre demande

Taille disponible

1. & Oslash; 30--2000mm, épaisseur 3.0mm - 300mm

2. Plat Targe: Longueur: 200-500mm Largeur: 100-230mm Épaisseur: 3--40mm

3. Personnalisé est disponible

Certificats

ISO9001: 2008, SGS, Le troisième rapport d'essai

Technique

Forgé et usiné CNC

Surface

Surface de tour CNC.

Application

1. galvanoplastie;
2. Génie chimique et pétrochimique;
3. Médical


Cible de pulvérisation de métal haute pur

Aluminium

Al

culot, rond, planaire, cible rotative

3N ~ 6N

Chronium

Cr

culot, rond, planaire, cible rotative

2N ~ 3N5

Zirconium

Zr

culot, rond, planaire, cible rotative

2N2 ~ 4N

Titane

Ti

culot, rond, planaire, cible rotative

4N ~ 5N

Molybdène

Mo

culot, rond, planaire, cible rotative

3N ~ 4N

Niobium

Nb

culot, rond, planaire, cible rotative

3N5

Tatalum

Ta

culot, rond, planaire, cible rotative

4N5

Tungstène

W

culot, rond, planaire, cible rotative

3N5

Hafnium

Hf

culot, rond, planaire, cible rotative

3N

Vanadium

V

culot, rond, planaire, cible rotative

2N5 ~ 3N

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